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    JB/T 7674—2005 羅茨真空泵

    JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備

    Vacuum ion coating plant

    1、范圍

    JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備標準規定了真空離子鍍膜設備的技術要求,試驗方法,檢驗規則,標志、包裝、運輸和貯存等。

    本標準適用于壓力在10-4~10-3Pa范圍的真空離子鍍膜設備(以下簡稱設備),具體包括如下類型:多弧離子鍍、電弧放電型真空離子鍍、空心陰極離子鍍(HCD)、射頻離子鍍(RFIP)、直流放電二極型(DCIP)、多陰極型、活性反應蒸發鍍(ARE)、增強型ARE、低壓等離子體離子鍍(LFPD)、電場蒸發離子鍍、感應加熱離子鍍、簇團離子束鍍等。

    注:離子鍍是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時,把蒸發物或其反應物沉積在基片上。

    2、引用標準

    下列標準所包含的條文,通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標準出版時,所示版本均為有效。所有標準都會被修訂,使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。

    GB/T 6070—1995 真空法蘭

    GB/T 11164—1999 真空鍍膜設備 通用技術條件

    3、技術要求

    3.1設備正常工作條件

    3.1.1 環境溫度:10℃~30℃。

    3.1.2 相對濕度:不大于75%。

    3.1.3 冷卻水進水溫度:不高于25℃。

    3.1.4 冷卻水質:城市自來水或相當質量的水。

    3.1.5 供電電源:380 V三相50 Hz 或220 V單相50 Hz(由所用電器需要而定);

    電壓波動范圍:342 ~ 399 V或198 ~231 V;

    頻率波動范圍:49~51 Hz。

    3.1.6 設備所需的壓縮空氣,液氮,冷水、熱水等的壓力、溫度,消耗量等,均應在產品使用說明書中寫明。

    3.1.7 設備周圍環境整潔,空氣清潔,不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵;驓怏w存在。

    3.2 設備技術參數

    3.2.1 設備的主要技術參數應符合表1規定。

    JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備

     

     

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